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HX系列低温恒温循环器常应用于对半导体制造装置发热部的冷却:单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却:激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。
HX 低温恒温循环器广泛应用于石油.化工，电子仪表，物理，化学，生物工程，医药卫生，生命科学，轻工食品物性测试及化学分析等研究部门，高等院校，企业质检及 部门，为用户工作时提供一个冷热受控，温度均匀恒定的场源，对实验样品或 的产品进行恒定温度实验或测试，也可作为直接加热或制冷和辅助加热或制冷的热源或冷源。
